DYNACOAT Podkład 1K ETCH PRIMER 0.4 L

45,63 zł
43,35 zł Zniżka 5%
Brutto
35,25 zł
43,35 zł Brutto

Najniższa cena w ciągu 30 dni przed aktualną promocją: 41,33 zł +5%

Dostawa w 2 dni robocze.

Wygoda użytkowania: produkt jest gotowy do aplikacji i niezwykle odporny na korozję, dzięki czemu zapewnia szybką i skuteczną ochronę metalu. Nadaje się do stali, stali ocynkowanej oraz aluminium, zapewnia również doskonałą przyczepność powłoki.

  • -5%
DYNACOAT Podkład 1K ETCH PRIMER 0.4 L
000000381
Ilość

DYNACOAT 1K ETCH PRIMER

Wygoda użytkowania: produkt jest gotowy do aplikacji i niezwykle odporny na korozję, dzięki czemu zapewnia szybką i skuteczną ochronę metalu. Nadaje się do stali, stali ocynkowanej oraz aluminium, zapewnia również doskonałą przyczepność powłoki.

Cechy produktu

  • Produkt gotowy do użycia w formie aerozolu.
  • Doskonała przyczepność.
  • Wysoka odporność na korozję.

Pobierz TDS lub MSDS

000000381
10 Przedmioty

Brak recenzji użytkowników.

To top

Rejestracja nowego konta

Posiadasz już konto?
Zamiast tego zaloguj się Lub Zresetuj hasło

Cookies

Informacje dotyczące plików cookies

Ta witryna korzysta z własnych plików cookie, aby zapewnić Ci najwyższy poziom doświadczenia na naszej stronie . Wykorzystujemy również pliki cookie stron trzecich w celu ulepszenia naszych usług, analizy a nastepnie wyświetlania reklam związanych z Twoimi preferencjami na podstawie analizy Twoich zachowań podczas nawigacji.

Zarządzanie plikami cookies

O Cookies

Pliki cookie to niewielkie pliki tekstowe, które są zapisywane na komputerze lub urządzeniu mobilnym przez strony internetowe, które odwiedzasz. Służą do różnych celów, takich jak zapamiętywanie informacji o logowaniu użytkownika, śledzenie zachowania użytkownika w celach reklamowych i personalizacji doświadczenia przeglądania użytkownika. Istnieją dwa rodzaje plików cookie: sesyjne i trwałe. Te pierwsze są usuwane po zakończeniu sesji przeglądarki, podczas gdy te drugie pozostają na urządzeniu przez określony czas lub do momentu ich ręcznego usunięcia.